梓夢科技邀您參加2025年精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇
<梓夢科技>
2025年7月24-25日在東莞喜來登大酒店舉辦2025年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇(第三屆),本次論壇將邀請產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)、科研院所和行業(yè)投資機構(gòu)等,圍繞精密研磨拋光的磨料制備技術(shù)、工藝創(chuàng)新、拋裝備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用等方面進行專題交流,為中國精密制造再上一個臺階做出貢獻。
隨著半導體集成電路、醫(yī)療器械和航空航天等產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展和升級,核心精密零件對表面粗糙度與面型精度的要求已經(jīng)達到了亞納米甚至原子量級。精研與拋光是影響精密零件可靠性與精確性的核心后道過程,精密研磨拋光技術(shù)正經(jīng)歷從材料研發(fā)到工藝創(chuàng)新的全面革新。
由于大的顆粒磨料會對晶圓表面產(chǎn)生刮痕,從而導致整體質(zhì)量下降,CMP拋光液要求盡量降低大顆粒的數(shù)量,對梓夢科技而言,此次交流會是展示如何檢測CMP拋光液中大顆粒的好機會。
會上,梓夢科技也將為大家提供LPC大顆粒計數(shù)系統(tǒng)、CMP平坦化粒度、粒形分析技術(shù),精準定制化半導體大顆粒解決方案。
? LPC 大顆粒計數(shù)分析儀/ZM-02
產(chǎn)品介紹:
大顆粒計數(shù)分析儀是采用光阻法原理設(shè)計生產(chǎn)的顆粒計數(shù)器,其主要的功能是用來測試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量等,如二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁等藥液。ZM-02產(chǎn)品按照要求查看任意通道顆粒的數(shù)量,如1μm、2μm、5μm等。
技術(shù)特點:
ü 檢測方式:離線或在線
ü 數(shù)據(jù)通道: 1024個
ü 自定義通道: 64個
ü 數(shù)據(jù)濃度上限可達1x 10
ü 檢測范圍廣,0.5μm - 400μm
ü 模塊化設(shè)計,便于升級及維護
ü 全自動進樣、自動稀釋、自動檢測、自動清洗、數(shù)據(jù)分析
對于黏度較高的樣品,大顆粒計數(shù)分析儀ZM-02可實現(xiàn)一鍵式操作,快速識別出漿料中高風險的大顆粒,無需人工稀釋操作,減少了測量誤差,更不需要人工清洗,大大提高檢測效率。
? CMP粒形分析儀/M3000
產(chǎn)品介紹:
粒形分析儀是采用動態(tài)圖像法原理設(shè)計生產(chǎn)的顆粒計數(shù)器,其主要的功能是用來測試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量、顆粒形狀、不同形狀顆粒的數(shù)量濃度等,如二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁等藥液。
不同形狀的顆粒對拋光效果和良率有明顯差異,粒形的控制是Slurry生產(chǎn)過程需要控制的重要參數(shù)。
技術(shù)特點:
ü 檢測方式:離線或在線
ü 全自動稀釋,無需人工稀釋
ü 用于CMP Slurry中顆粒濃度檢測
ü 數(shù)據(jù)濃度上限可達1x 109 /ml
球形度數(shù)據(jù)
頓度數(shù)據(jù)
粒形分析儀M3000尤其適用于CMP拋光液生產(chǎn)企業(yè)對“球形度"、“鈍度"等參數(shù)的管控,可直接觀察漿料的形狀大小,可有效調(diào)整生產(chǎn)工藝,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。在未來的精密研磨拋光領(lǐng)域,粒形分析儀M3000有望助力企業(yè)在市場中占據(jù)更有利的地位。
結(jié)語
梓夢科技建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供多方位的支持。無論是儀器的安裝調(diào)試、操作培訓,還是后續(xù)的維修保養(yǎng)、技術(shù)升級,都有專業(yè)的團隊及時響應(yīng)和處理,為半導體企業(yè)提供精準定制化半導體大顆粒解決方案。
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