TESCAN MAIA3超高分辨場發(fā)射掃描電鏡
 

MAIA3 model 2016在低電壓下也有*的性能，尤其對電子束敏感的半導(dǎo)體器件樣品以及納米材料等都具有優(yōu)異的表面靈敏度及高空間分辨率。全新的MAIA3也非常適合研究不導(dǎo)電試樣如原始狀態(tài)的生物樣品。

主要特點：

TriglavTM——新開發(fā)的超高分辨電子光學(xué)鏡筒并配備TriLensTM物鏡及*的探測系統(tǒng)

超高分辨率物鏡（60度浸沒式物鏡），全新的用于高分辨率分析工作的無漏磁分析物鏡，重新設(shè)計用于超大視場觀察的中間鏡。

*的電子束無交叉模式與超高分辨率物鏡相結(jié)合，獲得了的成像性能

傳統(tǒng)的TESCAN大視野光路設(shè)計提供各種工作和顯示模式

全新的EquiPower™技術(shù)進一步提高電子束的穩(wěn)定性

新的肖特基場發(fā)射電子槍能使電子束流高達400nA并能實現(xiàn)電子束能量的快速改變

通過擴展樣品室和支架能達到12”晶圓的SEM觀察

TriBETM技術(shù)具有三個BSE探測器，可以選擇不同角度的信號進行采集。位于鏡筒內(nèi)部的Mid-Ange BSE和In-Beam LE-BSE探測器，用于檢測中等角度及軸向的高角背散射電子，而樣品室的BSE探測器用于探測大角度范圍的背散射電子。并且這三個探測器能探測到低于200eV的低能背散射信號，綜合在一起，他們可以提供各種不同襯度的圖像

TESCAN MAIA3超高分辨場發(fā)射掃描電鏡TriSETM技術(shù)具有三個SE探測器，對所有工作模式下采集二次電子信號都進行了優(yōu)化。位于鏡筒內(nèi)部的In-Beam SE探測器能在短工作距離下采集二次電子。用于電子束減速模式下的SE(BDM)探測器用于超高分辨成像。In-Chamber SE探測器能提供形貌襯度

電子束減速技術(shù)(BDT)能在低至50eV的低電壓下，也仍具有出色的分辨率（選配）

電子束實時追蹤技術(shù)可對電子束實現(xiàn)實時優(yōu)化

擴展的低真空模式樣品室氣壓能達到500Pa，可用于不導(dǎo)電樣品的成像

超高分辨率 0.7@15keV，1.0nm@1keV

浸沒式物鏡系統(tǒng)和無交叉電子束模式結(jié)合在一起，可在低能量下實現(xiàn)超高分辨成像。浸沒式物鏡能在樣品周圍產(chǎn)生強磁場，顯著降低了像差。而無交叉電子束模式則降低了Boersch效應(yīng)，對電子束進行進一步的優(yōu)化，終達到1.0nm @1keV的超高分辨率。

低電壓和超低電壓成像

電子束減速技術(shù)(BDT)包括了電子束減速模式（BDM），以及在這個模式下可同步獲取二次電子和背散射電子信號的高質(zhì)量的透鏡內(nèi)探頭。在電子束減速模式下，通過加在樣品臺上的負偏壓使得電子束在作用到樣品表面前降低能量。低的著陸電壓可以降低到50eV(在手動控制下可以降到0eV)。電子束減速模式下減少了光路畸變，增強了電子鏡筒的性能，因而在低電壓下可以獲得更小的束斑直徑和高分辨的圖片。低電壓成像可以有效減少在觀察不導(dǎo)電樣品成像時出現(xiàn)的放電效應(yīng)，也有利于對那些電子束敏感樣品和未噴鍍處理的樣品的觀察。在這個模式下，可以達到對于表面形貌及成分襯度分析的極限分辨率