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STP-XA3203C 真空渦輪分子泵

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海赫哲真空設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)STP-XA3203C
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時(shí)間2025/3/21 7:19:43
  • 訪問次數(shù)64
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上海赫哲真空設(shè)備有限公司是一家依靠德國(guó)*技術(shù)、*海歸工程師團(tuán)隊(duì)組成,以真空設(shè)備銷售和維修為主,集科研開發(fā)、工程項(xiàng)目、技術(shù)服務(wù)于一體的*。

 

  赫哲真空(Hertzian)擁有強(qiáng)大的售后團(tuán)隊(duì),在上海設(shè)有專業(yè)維修工廠,為客戶24小時(shí)提供所有銷售產(chǎn)品的技術(shù)支持及售后服務(wù),公司擁有各種油泵、旋片式真空泵、干泵、機(jī)械泵等真空泵的維修保養(yǎng)技術(shù)、各類工具和必要的部品,能應(yīng)客戶要求,對(duì)客戶工廠設(shè)置的真空機(jī)器、設(shè)備提供定期維護(hù)、保養(yǎng)服務(wù)。

 

  赫哲真空(Hertzian)代理銷售世界-意大利DVP,旗下產(chǎn)品有真空泵、真空油品、真空泵配件維修包等相關(guān)設(shè)備配件材料。

 

  赫哲真空(Hertzian)銷售的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于車輛、土木建筑工程、機(jī)械、包裝、環(huán)境保護(hù)、醫(yī)藥及醫(yī)療器械、石油、化工、食品、光學(xué)、電氣、電子、原子能、半導(dǎo)體、航空航天、低溫、*機(jī)械、紡織、造紙、農(nóng)業(yè)以及民用工業(yè)等工業(yè)部門和科學(xué)研究工作中。依托*的質(zhì)量、*的技術(shù)、人性化的管理、多元化的解決方案和服務(wù),以上海為中心輻射到全國(guó)各地,深受海內(nèi)外客戶的認(rèn)可。                          

除提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)及咨詢,并且堅(jiān)實(shí)的后勤工作團(tuán)隊(duì),為客戶提供質(zhì)量及技術(shù)的Z佳保證,讓客戶使用上無后顧之憂,并且為客戶解決使用上或應(yīng)用上問題

  赫哲真空(Hertzian)秉承誠(chéng)信合作、與時(shí)俱進(jìn),為新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù),歡迎各界朋友前來洽談合作,共創(chuàng)未來。

真空泵、真空油品、真空泵維修包等相關(guān)設(shè)備配件
STP-XA3203C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能,并提高氣體的吞吐量。 此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì),提供功能以改善熱管理,從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能,提高大制程流能力,并減少腐蝕和沉積的影響。其出色的性能既適用于溫和的應(yīng)用環(huán)境,也適用于嚴(yán)苛的環(huán)境,例如半導(dǎo)體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。
STP-XA3203C 真空渦輪分子泵 產(chǎn)品信息

概述

STP-XA3203C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能,并提高氣體的吞吐量。 
此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì),提供功能以改善熱管理,從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能,提高大制程流能力,并減少腐蝕和沉積的影響。
其出色的性能既適用于溫和的應(yīng)用環(huán)境,也適用于嚴(yán)苛的環(huán)境,例如半導(dǎo)體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。

應(yīng)用

  • 金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
  • 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
  • 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
  • 濺射
  • 離子注入源,射束線泵送端點(diǎn)站
  • MBE
  • 擴(kuò)散
  • 光致抗蝕劑脫模
  • 晶體/晶膜生長(zhǎng)
  • 晶片檢查
  • 負(fù)載鎖真空腔
  • 科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
  • 高能物理:射束線、加速器
  • 放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋

功能和優(yōu)勢(shì)

的轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)  
  • 增強(qiáng)的 H2、N2 和 Ar 性能
  • 改進(jìn)了在高真空到 2300 sccm 制程壓力范圍內(nèi)的性能
  • 免維護(hù)
5 軸磁懸浮系統(tǒng)  
  • 無污染
  • 低振動(dòng)
性轉(zhuǎn)矩管理  
  • 獲得的轉(zhuǎn)矩減少機(jī)械裝置
優(yōu)化的溫度管理系統(tǒng)  
  • 高溫 TMS 能力
  • 低沉積
  • 內(nèi)置冷卻機(jī)械裝置
  • 更高的氣體吞吐量(加熱和未加熱)
  • 延長(zhǎng)壽命
  • 可用于嚴(yán)苛制程
  
  • 符合 SEMI®,具有 CE 標(biāo)記,列于 UL 中

數(shù)據(jù)

入口法蘭 ISO320F
抽速
  N2 3200 ls-1
  H2 2300 ls-1
壓縮比
  N2 >108
  H2 >6 x 103
極限壓力 10-7 Pa
大允許前級(jí)壓力 266 Pa
大允許氣體流量
N2(水冷卻) 2300 sccm

(3.8 Pam3s-1)
Ar(水冷卻) 1900 sccm

(3.2 Pam3s-1)
額定速度 27500 rpm
啟動(dòng)時(shí)間 8 min
固定位置 任何方向
水冷卻
流量 3 lmin-1
溫度 5-25 °C (41-77 °F)
壓力 0.3 MPa
的吹掃氣體流量 50 sccm

(8.4 x 10-2 Pam3s-1)
輸入電壓 200 至 240 (± 10) V 交流
功耗 1.5 kVA
泵重量 80 kg (176 lb)
控制器重量 12 kg (26.4 lb)

關(guān)鍵詞:電子顯微鏡 控制器
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